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LED Epitaxy Providence
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LED Epitaxy Providence

Le suscepteur Epitaxy LED de Vetek Semiconductor est conçu pour la fabrication épitaxiale LED bleue et verte. Il combine le revêtement en carbure de silicium et le graphite SGL, et a une dureté élevée, une faible rugosité, une bonne stabilité thermique et une excellente stabilité chimique. LED Epitaxy Suscepteur est l'un des produits les plus remarquables de Vetek Semiconductor. Nous attendons avec impatience votre demande.

Dans le domaine de la fabrication LED bleue et verte, le suscepteur Epitaxy LED, en tant que l'un des meilleurs produits du marché actuel, montre les solides capacités de fabrication de Vetek Semiconductor. Le suscepteur EPI LED est connecté de manière transparente à l'équipement AMEC MOCVD, ce qui prouve également la bonne relation coopérative de Vetek Semiconductor avec les grandes entreprises. Combinant les excellentes performances derevêtement en carbure de siliciumAvec les excellentes caractéristiques du graphite SGL, ce suscepteur fournit un soutien inégalé à la croissance épitaxiale LED, aidant les entreprises à se démarquer dans la concurrence féroce du marché.


Avantages du matériel de base


(I) revêtement en carbure de silicium

Le revêtement en carbure de silicium donne à l'épitaxie LED un suscepteur excellent dureté de surface, ce qui lui permet de résister à diverses usures physiques et rayures pendant la croissance épitaxiale LED. Le maintien de la planéité et de la douceur de la surface pendant longtemps garantit que l'uniformité de la croissance de la couche épitaxiale n'est pas affectée, améliorant efficacement le rendement et la cohérence du produit. Réduisant ainsi la formation de défauts cristallins et améliorant considérablement l'efficacité lumineuse et les performances électriques des LED bleues et vertes. En même temps, lerevêtement en carbure de siliciuma une excellente stabilité chimique. Il ne réagit pas avec les réactifs chimiques dans l'équipement MOCVD, évitant l'introduction d'impuretés et la corrosion du revêtement.


(Ii) SGL Graphite

Vetek Semiconductor utilise SGL Graphite comme substrat. Pendant la croissance épitaxiale des LED bleues et vertes, le graphite SGL peut rapidement effectuer la chaleur générée par la réaction, réduisant efficacement le gradient de température du suscepteur et garantissant l'uniformité de la température de toute la zone de croissance. Cela aide à réduire les défauts cristallins causés par la contrainte thermique et à améliorer la qualité des cristaux et la fiabilité des puces LED.


Les bonnes performances de traitement du graphite SGL permet au suscepteur d'être traité avec précision en différentes formes et tailles complexes pour répondre aux besoins de différents types d'équipements MOCVD et de processus de fabrication LED.


Indicateurs de performance technique du revêtement SIC


Indicateurs de performance technique du revêtement SIC
Propriété
Valeur typique
Structure cristalline
FCC β phase polycristalline, principalement (111) orienté
Densité de revêtement
3,21 g / cm³
Dureté de revêtement sic
2500 Vickers dureté (charge de 500 g)
Taille des grains
2 ~ 10 mm
Pureté chimique
99,99995%
Capacité de chaleur du revêtement SIC
640 J · kg-1· K-1
Température de sublimation
2700 ℃
Résistance à la flexion
415 MPA RT 4 points
Module de jeunes
430 GPA 4pt Bend, 1300 ℃
Conductivité thermique
300W · M-1· K-1
Expansion thermique (CTE)
4,5 × 10-6K-1

VETEK Semiconductor a une équipe technique professionnelle qui peut fournir aux clients une gamme complète de services de conseil technique pour le LED Epitaxy Sascepteur. Qu'il s'agisse du principe et des caractéristiques du produit, ou de l'optimisation des processus et de la résolution de problèmes dans les applications réelles, nos experts peuvent fournir des conseils détaillés et professionnels pour améliorer le niveau technique et la capacité de production des clients.


Données SEM du film de revêtement CVD SIC

SEM DATA OF CVD SIC COATING FILM


It semi-conducteurAliques de produits Sous-suscepteurs à LED

SiC Coating Wafer CarrierSemiconductor process equipmentCVD SiC Focus RingOxidation and Diffusion Furnace Equipment


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