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Revêtement SiC vs TaC : le bouclier ultime pour les suscepteurs de graphite dans le semi-traitement de puissance à haute température05 2026-03

Revêtement SiC vs TaC : le bouclier ultime pour les suscepteurs de graphite dans le semi-traitement de puissance à haute température

Dans le monde des semi-conducteurs à large bande interdite (WBG), si le processus de fabrication avancé est « l’âme », le suscepteur en graphite est la « colonne vertébrale » et son revêtement de surface est la « peau » critique.
La valeur critique de la planarisation chimico-mécanique (CMP) dans la fabrication de semi-conducteurs de troisième génération06 2026-02

La valeur critique de la planarisation chimico-mécanique (CMP) dans la fabrication de semi-conducteurs de troisième génération

Dans le monde aux enjeux élevés de l’électronique de puissance, le carbure de silicium (SiC) et le nitrure de gallium (GaN) sont à l’avant-garde d’une révolution, des véhicules électriques (VE) aux infrastructures d’énergies renouvelables. Cependant, la dureté légendaire et l’inertie chimique de ces matériaux présentent un formidable goulot d’étranglement en matière de fabrication.
La clé de l'efficacité et de l'optimisation des coûts : une analyse des stratégies de contrôle de la stabilité et de sélection des boues CMP30 2026-01

La clé de l'efficacité et de l'optimisation des coûts : une analyse des stratégies de contrôle de la stabilité et de sélection des boues CMP

Dans la fabrication de semi-conducteurs, le processus de planarisation chimico-mécanique (CMP) constitue l'étape essentielle pour obtenir la planarisation de la surface d'une plaquette, déterminant directement le succès ou l'échec des étapes de lithographie ultérieures. En tant que consommable essentiel dans le CMP, les performances de la boue de polissage sont le facteur ultime pour contrôler le taux d'élimination (RR), minimiser les défauts et améliorer le rendement global.
​À l'intérieur de la fabrication de bagues de mise au point CVD SiC solides : du graphite aux pièces de haute précision23 2026-01

​À l'intérieur de la fabrication de bagues de mise au point CVD SiC solides : du graphite aux pièces de haute précision

Dans le monde aux enjeux élevés de la fabrication de semi-conducteurs, où coexistent précision et environnements extrêmes, les bagues de mise au point en carbure de silicium (SiC) sont indispensables. Connus pour leur résistance thermique, leur stabilité chimique et leur résistance mécanique exceptionnelles, ces composants sont essentiels aux processus avancés de gravure au plasma. Le secret de leurs hautes performances réside dans la technologie Solid CVD (Chemical Vapor Deposition). Aujourd'hui, nous vous emmenons dans les coulisses pour explorer le parcours de fabrication rigoureux, d'un substrat de graphite brut à un « héros invisible » de haute précision de l'usine.
Quelles sont les diverses applications du quartz dans la fabrication de semi-conducteurs ?14 2026-01

Quelles sont les diverses applications du quartz dans la fabrication de semi-conducteurs ?

Les matériaux à base de quartz de haute pureté jouent un rôle essentiel dans l'industrie des semi-conducteurs. Leur résistance supérieure aux hautes températures, leur résistance à la corrosion, leur stabilité thermique et leurs propriétés de transmission de la lumière en font des consommables essentiels. Les produits à base de quartz sont utilisés pour les composants dans les zones de production de plaquettes à haute et basse température, garantissant ainsi la stabilité et la propreté du processus de fabrication.
La solution au défaut d'encapsulation du carbone dans les substrats en carbure de silicium12 2026-01

La solution au défaut d'encapsulation du carbone dans les substrats en carbure de silicium

Avec la transition énergétique mondiale, la révolution de l'IA et la vague de technologies de l'information de nouvelle génération, le carbure de silicium (SiC) est rapidement passé du statut de « matériau potentiel » à celui de « matériau de base stratégique » en raison de ses propriétés physiques exceptionnelles.
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