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Le dépôt chimique de vapeur (CVD) dans la fabrication de semi-conducteurs est utilisé pour déposer des matériaux en petits films dans la chambre, y compris SiO2, SIN, etc., et les types couramment utilisés incluent PECVD et LPCVD. En ajustant la température, la pression et le type de gaz de réaction, la MCV atteint une pureté, une uniformité élevée et une bonne couverture cinématographique pour répondre à différentes exigences de processus.

Cet article décrit principalement les grandes perspectives d'application de la céramique en carbure de silicium. Il se concentre également sur l'analyse des causes des fissures de frittage dans la céramique en carbure de silicium et les solutions correspondantes.