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Analyse approfondie des causes du jaunissement des bords et du pelage du revêtement de carbure de silicium sur les suscepteurs de graphite d'épitaxie MOCVD. VeTek a éliminé les micro-stress en contrôlant avec précision le taux de dépôt CVD initial et le champ d'écoulement, augmentant ainsi le rendement du revêtement de 50 % à 90 % et prolongeant la durée de vie des pièces en graphite de haute pureté.

Répondant à une variation d'épaisseur de 1,4 % d'une poche à l'autre dans les suscepteurs de graphite pour épitaxie de silicium multi-poches, VeTek Semi a amélioré la planéité du suscepteur à < 0,08 mm et réduit la variation à 0,69 % grâce à la simulation du champ d'écoulement CVD et au revêtement SiC ultra-précis, augmentant ainsi le rendement des tranches.

Découvrez comment Vetek a éliminé la fissuration radiale dans les suscepteurs en graphite MOCVD de grande taille à revêtement SiC. La refonte du tampon de contrainte structurelle et la correspondance CTE ont augmenté la durée de vie de 300 %+.